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ASML研发第二代EUV光刻机:性能提升70% 2025年问世

发布日期:2019-07-04 00:17   来源:未知   阅读:

  半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,成本能占到整个生产过程的1/3,光刻机也因此成为最重要的半导体制造装备,没有之一。目前最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,而且供不应求。

  2019年,台积电、三星都会开始量产7nm EUV工艺,现有的EUV光刻机也差不多成熟了,虽然产量比起传统的DUV光刻机还有所不如,不过已经能够稳定量产了,7nm及明年的5nm节点上EUV光刻机都会是重点。

  EUV光刻机未来还能怎么发展?2016年ASML公司宣布斥资20亿美元收购德国蔡司公司25%的股份,并投资数亿美元合作研发新一代透镜,而ASML这么大手笔投资光学镜头公司就是为了研发新一代EUV光刻机。

  日前韩媒报道称,ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有的光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA(高数值孔径)透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。

  在这个问题上,ASML去年10月份就宣布与IMEC比利时微电子中心合作研发新一代EUV光刻机,目标是将NA从0.33提升到0.5以上,而从光刻机的分辨率公式——光刻机分辨率=k1*λ/NA中可以看出,NA数字越大,光刻机分辨率越高,所以提高NA数值孔径是下一代EUV光刻机的关键,毕竟现在EUV极紫外光已经提升过一次了。

  之前ASML公布的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,这个时间上台积电、三星都已经量产3nm工艺了,甚至开始进军2nm、1nm节点了。